真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀...

噴涂一直存在于我們的生活中，長期以來被用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護性涂料。因此，它是材料科學家制備薄膜的又一工具。在噴涂中，噴嘴尺寸、噴涂形狀、噴嘴到基材的距離、噴涂速度和噴涂過程中基材的加熱都是可控的參數，以達到理想效果。使用超聲波霧化模塊，可使噴霧溶液均質化，霧滴大小得到有效控制（噴嘴頻率...

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密...

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一種小型直流（DC）等離子磁控濺射鍍膜系統，該系統包括所有必需的附件，如500W（600V）直流電源、2英寸磁控濺射頭、石英真空室、真空泵和溫度控制器。主要由濺射真空室、磁控濺射靶材、樣品臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機和真空測量裝置組成。高真空濺射可用于制備金屬、半導體、絕...

采用新型保溫材料的箱式爐具有體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快等優點。面板材質為不銹鋼；外形美觀，操作簡單，維護方便，爐后設有可控煙囪；適用于煤、焦化產品和化工原料的化學分析。五面加熱（左、右、前、后、下）可獲得均勻的溫度場。1、雙熱電偶雙儀表控溫檢測，確保不發生超溫實驗事故。2、爐膛材料采用高...

等離子清洗機廣泛應用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而可以對多種材料進行涂層、電鍍等操作，增強附著力和結合力，同時去除有機污染物、油或油脂。等離子清洗裝置包括四個主要部件：激發電源、真空泵、真空室和反應氣源。激勵源是為氣體放...