<font id="bb9xx"></font>

<delect id="bb9xx"><pre id="bb9xx"></pre></delect>

            <font id="bb9xx"></font>

            <font id="bb9xx"></font><font id="bb9xx"></font>

            <font id="bb9xx"></font>

            <mark id="bb9xx"><form id="bb9xx"><font id="bb9xx"></font></form></mark>

                  <font id="bb9xx"><noframes id="bb9xx"><font id="bb9xx"></font>
                  <menuitem id="bb9xx"></menuitem>

                  客戶咨詢熱線:
                  18255163376
                  首頁 > 產品中心 > 薄膜制備全套設備 > 雙靶磁控濺射儀
                  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

                    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

                    訪問次數:2061    產品價格:面議    廠商性質:生產廠家    更新日期:2021-11-15

                  共 1 條記錄,當前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
                  日本一区二区三区综合在线_日本一区二区视频_日本一区二区视频在线一区_日本一区二区伊人AI换脸_日本一区二区在线