5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

概念

• 5個濺射頭安裝5種不同材料
• 通過不同的濺射時間，5種材料可以濺射出不同組分的產物，
• 選擇5個等離子射頻電源，可在同一時間濺射5種材料
• 真空腔體中安裝有旋轉樣品臺，可以制作16個樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

• 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上，并與靶頭相連接
• 一個旋轉開關可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以在真空或等離子體環境中自動切換
• 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
• 所有的濺射參數，都可由電腦設置

直流電源（可選）

• 可選購直流電源，來濺射金屬靶材
• 可配置5個直流或射頻電源，來同時濺射5中靶材

磁控濺射頭

• 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
• 可在本公司額外購買射頻線
• 電動擋板安裝在濺射腔體內
• 設備中配有一循環水冷機，水流量為10L/min
•  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材

• 所要求靶材尺寸：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
• 濺射距離: 50 – 80 mm（可調）
• 濺射角度: 0 – 25°（可調）
• 配有銅靶和 Al₂O₃ 靶，用于樣品測試用
• 可在本公司購買各種靶材
• 實驗時，需要將靶材和銅片粘合，可通過導電銀漿粘合（可在本公司購買導電銀漿）

真空腔體

• 真空腔體采用304不銹鋼制作
• 腔體內部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
• 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
• 真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）

樣品臺

• 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
• 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉，可制作16種不同組分的薄膜
• 樣品臺可以加熱，zui高溫度可達600℃

真空泵

• 設備中配有一小型渦旋分子泵
• 真空泵接口為KF40

石英振蕩測厚儀（可選）

可選購精密石英振蕩測厚儀，安裝在真空腔體內，實時測量薄膜的厚度，精確度為0.1 Å（需水冷）

凈重

60kg

質量認證

CE認證

質保

一年質保期，終生維護

應用注意事項

• 此款設備設置主要是在單晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的環境
• 所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購買），所用Ar氣純度為5N
• 為了得到較好質量的薄膜，可以對基片進行清洗
• 用超聲波清洗機，用丙酮或乙醇作為清洗介質，清除基片表面的油脂，然后在N2氣或真空環境下對基片干燥
• 等離子清洗機，可使基片表面粗糙化，改變基片表面化學活性，清除表面污染物
• 可在基片表面鍍上緩沖層，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金屬或合金膜的粘附性
• 濺射一些非導電靶材，其靶材背后必須附上銅墊片
• 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
• 因為濺射頭連接著高電壓，所以用戶在放入樣品或更換靶材時，必須切斷電源
• 不可用自來水作為冷卻水，以防水垢堵塞水管。應該用等離子水，或冷卻介質

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