雙靶磁控濺射儀

結構

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輸入電源

• 220VAC 50/60Hz, 單相
• 2000W  (包括泵)

濺射電源

• 安裝有兩個濺射電源
• 直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜
• 射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜
• 同時可選配300W的射頻電源
  

磁控濺射頭

• 儀器中安裝有2個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫
• 其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
• 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材
• 靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
•              陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm
• 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
• 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機）
  

也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員

真空腔體

• 真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作
• 觀察窗口：  100 mm diameter
• 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
  

載樣臺

• 載樣臺尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）
• 載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調）
• 載樣臺zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
  

氣體流量控制器

• 儀器內部安裝有2個質量流量計
• 量程為：0-200sccm
• 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作

真空泵系統

配有一套分子泵系統（德國制作），采用一鍵式操作

薄膜測厚儀

• 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å  
• LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
  

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

質保期

一年質保期，終生維護